Szybka kontrola półprzewodników przy użyciu różnych metod obserwacji mikroskopu
Kontrola półprzewodników wytrawionych wafle i obwodów zintegrowanych (ICS) podczas procesu produkcyjnego ma kluczowe znaczenie dla identyfikacji i zmniejszenia defektów. Aby poprawić wydajność kontroli jakości we wczesnym etapie produkcji i zapewnić niezawodną wydajność układów zintegrowanych obwodów, roztwory mikroskopowe należy połączyć z różnymi metodami obserwacji w celu dostarczenia pełnych i dokładnych informacji o różnych wadach. Wprowadzone tutaj metody obserwacji obejmują jasne pole, ciemne pole, polaryzację DIC, ultrafiolet, oświetlenie ukośne i podczerwień. Są one zintegrowane z mikroskopami do wykrywania i rozwoju płytek i obwodów zintegrowanych.
Jak korzysta z branży produkcji półprzewodników z mikroskopów
Rozwiązania mikroskopowe odgrywają ważną rolę w wydajnym i niezawodnym wykryciu, kontroli jakości (QC), analizie błędów (FA) oraz badaniach i rozwoju (R&D) w przemyśle półprzewodników.
W procesie produkcji półprzewodników różne rodzaje wad mogą wystąpić w różnych etapach, co może wpływać na normalne działanie sprzętu. Im wcześniej te defekty zostaną odkryte, tym lepiej. Wady te mogą być spowodowane losowo rozmieszczonymi cząstkami pyłu na waflu (wady losowe) lub zadrapaniami, oderwaniem i pozostałością powłok i fotorezystów spowodowanych warunkami przetwarzania (takimi jak podczas trawienia) i mogą występować w określonych obszarach opłatek. Ze względu na jego niewielki rozmiar mikroskopy są preferowanym narzędziem do identyfikacji takich wad.
Zwłaszcza w porównaniu z wolniejszymi i droższymi mikroskopami, takimi jak mikroskopy elektronowe (EM), mikroskopy optyczne (OM) mają wiele zalet. Ze względu na jego wszechstronność i łatwość użycia mikroskopy optyczne są powszechnie stosowane do badań jakościowych i ilościowych wad nagich waflów i trawionych/przetworzonych płytek, a także w procesach montażowych i pakowania zintegrowanych obwodów (ICS).
Różne metody obserwacji mikroskopii optycznej, takie jak jasne pole (BF), ciemne pole (DF), kontrast interferencji różnicowej (DIC), polaryzacja (Pol), ultrafiolet (UV), oświetlenie ukośne i zintegrowane i zintegrowane procesy wirusowe (IR).
